隨著AR/VR隨著行業(yè)的興起，納米印刷迎來了他的另一個(gè)春天，我相信隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，將會(huì)有下一個(gè)春天。因此，我想借這篇文章來談?wù)勎覍{米印刷技術(shù)的看法。本文不禁止學(xué)術(shù)報(bào)告。請理解不準(zhǔn)確的地方。歡迎批評和糾正！

我主修材料。我第一次聽說納米壓印是在八年前攻讀碩士學(xué)位的時(shí)候。當(dāng)時(shí)我剛趕上LED當(dāng)行業(yè)非?；鸨瑫r(shí)，藍(lán)寶石襯底圖形化采用納米壓印技術(shù)進(jìn)行（PSS）技術(shù)技術(shù)非常流行，所以當(dāng)時(shí)對納米印刷的認(rèn)知相對膚淺，但他只是認(rèn)為這是一種圖形措施沒有什么不同（當(dāng)然，當(dāng)時(shí)對光刻的理解還不夠）。隨著工作進(jìn)入工作崗位，我們真的處理了一群需要納米壓印的人。有國內(nèi)知名顯示面板制造商、防偽領(lǐng)域領(lǐng)先企業(yè)、新顯示技術(shù)制造商、5家G目前非常流行的光通信芯片制造商、圖像傳感器研發(fā)企業(yè)和3D結(jié)構(gòu)光、AR/VR(如下圖1所示AR/VR企業(yè)等應(yīng)用場景)。我的觀點(diǎn)如下：

1. 納米壓印取代光刻集成電路還有很長的路要走。早期納米壓印被認(rèn)為是一種非常有前途的圖形技術(shù)，并聲稱未來將取代光刻集成電路。當(dāng)時(shí)，我們只看到其分辨率高、成本低的特點(diǎn)，有選擇地避免了納米壓印模板制造、對準(zhǔn)等問題，現(xiàn)在這些問題仍然存在，所以想取代集成電路復(fù)雜工藝水平的光刻，現(xiàn)在不能，短期內(nèi)不能；

2. 簡單3的納米壓印D批量加工微納米結(jié)構(gòu)圖具有優(yōu)勢， 我們通常所說的光刻技術(shù)是基于二維平面的加工方法，即使我們可以通過一些后續(xù)的輔助工藝（如選擇性蝕刻、熱回流）獲得一些3D或者準(zhǔn)確地說89che.com結(jié)構(gòu)(如金字塔結(jié)構(gòu)、微針結(jié)構(gòu)、微鏡結(jié)構(gòu)等)，但這些手段的特點(diǎn)是可控性低(或工藝窗口小)。當(dāng)然，我們可以使用類似激光或電子束的灰度光刻來制作一些閃光格柵（如下圖2所示）、菲涅爾透鏡和其他結(jié)構(gòu)，但它仍然非常困難，效率和處理風(fēng)險(xiǎn)也非常高。

我們剛才說這種結(jié)構(gòu)的加工成本很高，光刻和納米壓印的結(jié)合是一個(gè)很好的選擇，因?yàn)殡m然這種結(jié)構(gòu)的加工成本很高，但它可以在制作成納米壓印模板后批量甚至生產(chǎn)。這種效率是光刻無法比擬的。

3. 大面積簡單圖形重復(fù)結(jié)構(gòu)的加工和嚴(yán)格的成本控制。在這里，我們常見的簡單重復(fù)結(jié)構(gòu)，如納米柱陣列、孔陣列、光柵結(jié)構(gòu)、六邊形蜂窩結(jié)構(gòu)（如下圖4所示）等。這些結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)是單個(gè)圖形加工不難，但面積大導(dǎo)致加工成本高。此時(shí)，我們可以通過制作納米壓印板獲得，納米壓印將很好地控制成本。

4. 曲面上的微納米結(jié)構(gòu)加工，我們知道現(xiàn)有的光刻技術(shù)幾乎都是基于平面襯底加工的，但在實(shí)際使用中，我們經(jīng)常會(huì)遇到一些微結(jié)構(gòu)需要在球面或柱面上加工。對于光刻來說，研發(fā)工具夾具需要很大的成本，而不需要花費(fèi)大量的精力。然而，隨著納米壓印技術(shù)的發(fā)展，每個(gè)家庭都有自己的軟膜技術(shù)。軟膜可以在一些曲率半徑較大的襯底上制作微結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），也可以避免襯底上的一些顆粒缺陷。此外，柔性襯底上的微結(jié)構(gòu)加工(如下圖6所示)也是納米壓印的最大優(yōu)點(diǎn)之一。

以上介紹了納米壓印的幾個(gè)特點(diǎn)和潛在應(yīng)用。雖然感覺很有優(yōu)勢，但需要知道以下特點(diǎn)也是制約納米壓印的難點(diǎn):

1. 模板加工嚴(yán)重依賴于光刻技術(shù)。目前的模板加工大多依賴于光刻，特別是納米結(jié)構(gòu)，幾乎不能繞過電子束光刻等手段，導(dǎo)致壓印模板價(jià)格昂貴。

2. 納米壓印底膠問題，我們知道光刻膠會(huì)有一些殘留膠（也稱為底膠，見文章剝離章節(jié)底膠工藝），這種殘留膠有時(shí)會(huì)影響設(shè)備的電氣性能，納米壓印也是如此，納米壓印殘留膠會(huì)比光刻更嚴(yán)重，在一些特殊的地方不想出現(xiàn)底膠需要去除底膠（如下圖7所示）。

3. 針對這個(gè)問題，我們知道跨規(guī)模加工是當(dāng)前加工的痛點(diǎn)之一。目前，套筒雕刻等技術(shù)是解決大面積問題的有效途徑之一，這意味著我們需要高精度，這往往取決于我們的對準(zhǔn)技術(shù)。與電子束光刻或紫外光刻不同，現(xiàn)有納米壓印技術(shù)的對準(zhǔn)仍然沒有很好的解決方案，雖然我們認(rèn)為我們可以使用紫外線雕刻上的光學(xué)對準(zhǔn)或莫爾條紋技術(shù)，但別忘了納米壓印沒有固化和垂直壓印運(yùn)動(dòng)過程，因此會(huì)帶來多向偏差（X-Y，旋轉(zhuǎn)和傾斜偏差)。

以上是個(gè)人對納米壓印的看法和介紹。如果您對納米壓印的應(yīng)用或納米壓印模板制版技術(shù)感興趣，歡迎與我溝通。

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